2012-07-09

研磨与抛光介绍

研磨与抛光介绍
研磨抛光(Polishing or Lapping)是使工件产生平滑镜面的超精密研磨技术，其目的在於使表面粗糙度及平坦度到达一定的可容许范围，常被广泛的使用在硬脆金属丶陶瓷丶玻璃及 晶圆等材料表面的精密加工。
研磨-研磨与抛光介绍

研磨

研磨工作方式：

研磨加工通常使用1μm到几十μm磨粒和铸铁等硬质材料的研具。

  • 磨粒在工件与研具之间进行转动
  • 由研具面支撑磨粒研磨加工面
  • 由工件支撑磨粒研磨加工面

研磨特性：

  • 硬脆材料的研磨
    • 微小破碎痕迹构成的无光泽面。
    • 磨粒不是作用於镜面而是作用在有凸凹和裂纹等处的表面上，并产生磨屑。
  • 金属材料的研磨
    • 表面没有裂纹。
    • 对於铝材等软质材料，研磨时有很多磨粒被压入材料内；对刀具和块规等淬火工具钢等可确保有块规那样的光泽表面。
抛光-研磨与抛光介绍

抛光

抛光工作方式：

  • 使用<1μm的微细磨粒。
  • 软质材料抛光垫：沥青丶石蜡丶合成树脂和人造革等。
  • 微小的磨粒被抛光器弹性地夹持研磨工件。因而，磨粒对工件的作用力很小，即使抛光脆性材料也不会发生裂纹。

研磨特性：

  • 由磨粒进行的机械抛光可塑性地生成切屑。但是它仅利用极少磨粒强制压入产生作用。
  • 借助磨粒和抛光器与工件流动摩擦使工件表面的凸因变平。
  • 在加工液中进行化学性溶析。
  • 工件和磨粒之间有直接的化学反应而有助於上述现象。
 

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