研磨液(抛光液),数控刀具,刀具,铣刀,钨钢,钨钢刀制造商

碧威抛光研磨液产品有分为金刚石研磨液以及其他研磨液产品（如氧化铝丶碳化硅及二氧化硅..)

• 研磨液(抛光液)：
  1. 研磨液由磨粒分散於介质制备而成，是一种具有优良化学机械性能的研磨产品，可用於硅片丶化合物晶体丶精密光学器件丶液晶面板丶宝石丶金属工件等的研磨抛光。
  2. 磨粒是研磨液机械作用的关键因素，不同种类丶不同粒度的磨粒磨削效果不同，适合於不同的加工要求..来讲磨料硬度越高丶颗粒越大，其磨削效率越高丶加工表面光洁度越低；相反磨料硬度越低丶颗粒越小，其磨削效率越低丶加工表面光洁度越高。
  3. 介质是磨粒的载体，影响着磨粒的分散，在加工过程中起到冷却丶排屑等作用，有时还会起到化学腐蚀的作用..研磨液由金刚石磨粒充分混合分散液中制备而成，根据金刚石的品种分为多晶金刚石丶单晶金刚石和爆轰奈米金刚石三种。
• 二氧化硅研磨液(图)
  
  
• 超细氧化铝(AO)丶碳化硅(SC)为磨料抛光液：
  主要成分是微米或亚微米及磨料..列产品具有良好分散性丶粒度均匀丶硬度大丶抛光效率高等特点，能满足高精密光学仪器丶微晶玻璃机光碟片丶磁头丶化合物晶体丶陶瓷丶光纤连接器丶硬质合金等方面的精密抛光求。
• 产品特点：
  • 极低的杂质含量
  • 具有良好的分散稳定性
• 超细氧化铝(AO)丶碳化硅(SC)规格：

  系列	型号	粒径(D50,μm)	浓度(wt%)
  AO系列	AO-1/2	0.4-0.6	10-60
  	AO-2	1.6-2.4
  	AO-3	2.9-3.6
  SC系列	SC-1	0.8-1.2
  	SC-3	2.6-3.6
  可依据客户需求订制不同规格

• 二氧化硅抛光液：硅溶胶产品均是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品，广泛用於多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片丶锗片丶化合物半导体材料砷化镓丶磷化铟，精密光学器件丶蓝宝石片等的抛光加工..应用领域广丶抛光效率高丶杂质含量低丶抛光後容易清洗等特点..：硅片丶化合物晶体丶精密光学器件丶宝石等的抛光加工..产不同细微性（10~150 nm）的产品满足使用者需求..pH值的不同可分为酸性抛光液和硷性抛光液。
• 产品的特点：
  1. 高抛光速率，利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的（可以生产150 nm）
  2. 细微性可控，根据不同需要，可生产不同细微性的产品（10-150 nm）
  3. 高纯度（Cu2+含量小於50 ppb），有效减小对电子类产品的沾污
  4. 高平坦度加工，本品抛光是利用SiO2的胶体粒子，不会对加工件造成物理损伤，达到高平坦化加工
• 二氧化硅抛光液规格:

  硷性型号	SOQ-2	SOQ-4	SOQ-6	SOQ-8		SOQ-10	SOQ-12
  pH：9.8±0.5
  酸性型号	ASOQ-2	ASOQ-4	ASOQ-6	ASOQ-8		ASOQ-10	ASOQ-12
  pH：2.8±0.5
  粒径(nm)	10~30	30~50	50~70	70~90		90~110	110~130
  外观	乳白色或半透明液体
  密度(g/ml)	1.15±0.05
  组成	成份				含量（w%）
  	SiO2				15～30
  	Na2O				≤0.3
  	重金属杂质				≤50 ppb